4月30日，青海省科学技术厅组织相关专家对青海大学昆仑学者费维栋教授主持的青海省科技计划项目《高性能铜铟镓硒薄膜的磁控溅射制备及微结构控制》的科技项目进行了验收。与会专家和相关领导在听取项目组汇报、审阅了相关资料，经质询、讨论，认为该课题完成了合同书中规定的研究内容，一致通过验收。

项目研究了磁控溅射制备工艺中沉积功率、衬底温度、工作气压及后续退火温度等参数对铜铟镓硒薄膜成分、结构和性能的影响，阐明了制备参数与薄膜性能关系的规律，实现了制备工艺参数的优化。
制备出了单一黄铜矿结构的铜铟镓硒薄膜，性能优异：表面粗糙度小于5nm，晶粒尺寸大于1mm，电阻率8Wcm，项目研究期间共发表SCI收录论文4篇，EI收录论文1篇。

会议认为，该课题具有较强的理论价值和推广意义。课题成果填补了省内该领域研究的空白，具有很好的产业化应用前景。